TiNbZr Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ថ្នាំកូត Pvd ស្តើង ផលិតតាមបំណង

ទីតានីញ៉ូម Niobium Zirconium sputtering គោលដៅត្រូវបានប្រឌិតដោយមធ្យោបាយនៃការរលាយខ្វះចន្លោះ។វាមានម៉ូឌុលទាបនៃការបត់បែន កម្លាំងខ្ពស់ ភាពស្វិតស្វាញ អស់កម្លាំង និងអាកប្បកិរិយាធន់នឹងច្រេះ។វាជាសម្ភារៈដែលឆបគ្នានឹងជីវសាស្រ្ត ហើយអាចត្រូវបានប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងកម្មវិធីឧបករណ៍វេជ្ជសាស្ត្រដែលអាចធ្វើការដោយត្រជាក់ដល់កម្រិតខ្ពស់នៃភាពរឹងមាំ និងភាពបត់បែនសម្រាប់ការកែលម្អដំណើរការនៃធ្មេញ អ៊ុតដូនទិក ធ្មេញ ឆ្អឹង សរសៃឈាមបេះដូង និងឧបករណ៍ និងឧបករណ៍វេជ្ជសាស្ត្រផ្សេងទៀត .

Rich Special Materials គឺជាអ្នកផលិត Sputtering Target ហើយអាចផលិត Titanium Niobium Zirconium Sputtering Materials ទៅតាមការបញ្ជាក់របស់អតិថិជន។សម្រាប់ព័ត៌មានបន្ថែម សូមទាក់ទងមកយើងខ្ញុំ។