សូមស្វាគមន៍មកកាន់គេហទំព័ររបស់យើង!

Cumo Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ខ្សែភាពយន្តស្តើង Pvd Coating ផលិតតាមបំណង

ទង់ដែង Molybdenum

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

ប្រភេទ

Alloy Sputtering គោលដៅ

រូបមន្តគីមី

CuMo

ការ​តែង​និពន្ធ

ទង់ដែង Molybdenum

ភាព​បរិសុទ្ធ

99.9%, 99.95%, 99.99%

រាង

ចាន, គោលដៅជួរឈរ, cathodes ធ្នូ, ផលិតតាមបំណង

ដំណើរការផលិត

PM

ទំហំដែលអាចប្រើបាន

L≤200mm, W≤200mm


ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

គោលដៅស្ពាន់ Molybdenum sputtering ត្រូវបានប្រឌិតដោយមធ្យោបាយនៃការជ្រៀតចូល sintering: ម្សៅ Molybdenum sintered និងបង្កើតឡើងចូលទៅក្នុងផលិតផលពាក់កណ្តាលសម្រេច រួមផ្សំជាមួយនឹងយុទ្ធសាស្រ្តដំណោះស្រាយ aqueous មីក្រូវ៉េវជាបន្តបន្ទាប់។លោហៈធាតុទង់ដែង Molybdenum មានលក្ខណៈសម្បត្តិរូបវ័ន្ត និងមេកានិកឆ្នើម៖ ភាពពេញចិត្តនៃចរន្តអគ្គិសនី និងកម្ដៅ មេគុណកម្រិតទាប និងអាចលៃតម្រូវបាននៃការពង្រីកកម្ដៅ ភាពធន់ទ្រាំពាក់ និងកម្លាំងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់។

សមាសភាព (%)

Cu

Mo

ភាពមិនបរិសុទ្ធ (%)

MoCu ១០

10 ± 2

តុល្យភាព

≤0.1

MoCu15

15 ± 3

តុល្យភាព

≤0.1

MoCu20

20 ± 3

តុល្យភាព

≤0.1

MoCu25

២៥ ± ៣

តុល្យភាព

≤0.1

MoCu ៤០

40±5

តុល្យភាព

≤0.1

សម្ភារៈពិសេសសម្បូរបែបមានជំនាញក្នុងការផលិត Sputtering Target ហើយអាចផលិតសម្ភារៈ Copper Molybdenum Sputtering Materials តាមការបញ្ជាក់របស់អតិថិជន។សម្រាប់ព័ត៌មានបន្ថែម សូមទាក់ទងមកយើងខ្ញុំ។


  • ផលិតផលដែលពាក់ព័ន្ធ

  • ស្លាកផលិតផល៖