CrNi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ផលិតតាមបំណង

ជាមួយនឹងដំណើរការល្អនៃការប្រឆាំងនឹងអុកស៊ីតកម្ម និងធន់នឹងច្រេះ CrNi alloy sputtering target វាត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងកម្មវិធីឧស្សាហកម្មជាច្រើនដូចជាកញ្ចក់ Low-E មីក្រូអេឡិចត្រូនិច ការថតម៉ាញេទិក សារធាតុ semiconductor និងស្តើង film resistor ។

Chronium Nickel Sputtering Target ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្មថ្នាំកូតកញ្ចក់ រួមទាំងថ្នាំកូតកញ្ចក់រថយន្ត ដើម្បីកាត់បន្ថយការឆ្លុះបញ្ចាំង បង្កើនការបញ្ជូនពន្លឺ និងដោះស្រាយបញ្ហារូបភាពខ្មោច។លើសពីនេះ ថ្នាំកូត PVD អាចពន្យឺតអត្រានៃភាពចាស់ និងពន្យារអាយុជីវិតរបស់ផលិតផល។

Low-E ឬទាប កញ្ចក់ត្រូវបានបង្កើតឡើងដើម្បីកាត់បន្ថយបរិមាណនៃពន្លឺអ៊ីនហ្វ្រារ៉េដ និងអ៊ុលត្រាវីយូឡេ ដែលចូលមកតាមកញ្ចក់របស់អ្នក ដោយមិនកាត់បន្ថយបរិមាណពន្លឺដែលចូលក្នុងផ្ទះរបស់អ្នក។បង្អួចកញ្ចក់ទាប E មានថ្នាំកូតស្តើងដែលមានតម្លាភាព និងឆ្លុះបញ្ចាំងពីកំដៅ រក្សាសីតុណ្ហភាពឱ្យស្របគ្នាដោយឆ្លុះបញ្ចាំងពីសីតុណ្ហភាពខាងក្នុងត្រឡប់មកវិញ។នីកែល Chronium ច្រើនតែត្រូវបានគេដាក់នៅខាងក្រៅបំផុត ដើម្បីបំពេញមុខងារជាស្រទាប់ការពារប្រឆាំងនឹងអុកស៊ីតកម្ម និងច្រេះ។

រេស៊ីស្តង់ហ្វីលស្តើងដែលផលិតដោយលោហៈធាតុ Chronium Nickel មានគុណសម្បត្តិជាច្រើន៖ ធន់ទ្រាំខ្ពស់ មេគុណសីតុណ្ហភាពទាប និងភាពរសើបខ្ពស់ ហើយត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្មផ្សេងៗគ្នា រួមទាំងរង្វាស់ធន់ទ្រាំ។