លក់ដុំ CoCrAlY Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating ក្រុមហ៊ុនផលិត និងផ្គត់ផ្គង់ ផលិតដោយខ្លួនឯង |សម្បូរ

Cobalt Chromium អាលុយមីញ៉ូម Yttrium

CoCrAlY Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom made Featured Image

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

ប្រភេទ	Alloy Sputtering គោលដៅ
រូបមន្តគីមី	CoCrAlY
ការតែងនិពន្ធ	Cobalt Chromium អាលុយមីញ៉ូម Yttrium
ភាពបរិសុទ្ធ	99.9%, 99.95%, 99.99%
រាង	ចាន, គោលដៅជួរឈរ, cathodes ធ្នូ, ផលិតតាមបំណង
ដំណើរការផលិត	ការរលាយសុញ្ញកាស
ទំហំដែលអាចប្រើបាន	L≤200mm, W≤200mm

ផ្ញើអ៊ីមែលមកយើង

ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

ស្លាកផលិតផល

Cobalt Chromium អាលុយមីញ៉ូម Yttrium Sputtering ការពិពណ៌នាគោលដៅ

Cobalt Chromium Aluminum Yttrium sputtering target គឺជាយ៉ាន់ស្ព័រដែលមានមូលដ្ឋានលើ Cobalt ជាមួយនឹងការបន្ថែមសារធាតុ Chromium Aluminum និង Yttrium ។វាបង្ហាញអាកប្បកិរិយាធន់នឹងការច្រេះដ៏អស្ចារ្យនៅក្នុងឧបករណ៍ផ្ទុកអំបិលដែលលាយបញ្ចូលគ្នា (សូដ្យូមស៊ុលហ្វាត សូដ្យូមនីត្រាត សូដ្យូមកាបូណាត កាល់ស្យូមស៊ុលហ្វាត កាល់ស្យូមស៊ុលហ្វាត សូដ្យូមក្លរួ ប៉ូតាស្យូមក្លរួ សូដ្យូមក្លរួ សូដ្យូមស៊ុលហ្វាត) នៅសីតុណ្ហភាពកើនឡើង។Chromium អាលុយមីញ៉ូម Yttrium អាចមានសមាមាត្រផ្សេងគ្នា អាស្រ័យលើបរិយាកាសប្រតិបត្តិការនៃស្រទាប់។ជាធម្មតា យ៉ាន់ស្ព័រនឹងបង្ហាញរចនាសម្ព័ន្ធ biphasic ខណៈពេលដែលមាតិការបស់ Chromium គឺ 20-40% (wt, អាលុយមីញ៉ូម 5-20% (wt)) និង Yttrium 0.5% (wt) ។

Cobalt Chromium Aluminum Yttrium គោលដៅអាចត្រូវបានដាក់នៅលើផ្ទៃនៃសមាសធាតុសីតុណ្ហភាពខ្ពស់ដែលប្រើនៅក្នុងឧស្សាហកម្មអវកាស យន្តហោះ និងទួរប៊ីនឧស្ម័ន។ស្រទាប់ប្រភេទនេះអាចពន្យារអាយុសេវាកម្មបានមួយម៉ឺនម៉ោង។

Cobalt Chromium អាលុយមីញ៉ូម Yttrium Sputtering ការវេចខ្ចប់គោលដៅ

គោលដៅ Sputter CoCrAlY របស់យើងត្រូវបានដាក់ស្លាកយ៉ាងច្បាស់ និងដាក់ស្លាកខាងក្រៅ ដើម្បីធានាបាននូវការកំណត់អត្តសញ្ញាណ និងការត្រួតពិនិត្យគុណភាពប្រកបដោយប្រសិទ្ធភាព។មានការប្រុងប្រយ័ត្នខ្ពស់ ដើម្បីជៀសវាងការខូចខាតដែលអាចបណ្តាលមកពីការរក្សាទុក ឬការដឹកជញ្ជូន។

ទទួលបានទំនាក់ទំនង

គោលដៅបាញ់ថ្នាំអាលុយមីញ៉ូម Cobalt Chromium Yttrium របស់ RSM មានភាពបរិសុទ្ធ និងឯកសណ្ឋានខ្ពស់។ពួកវាមានក្នុងទម្រង់ផ្សេងៗ ភាពបរិសុទ្ធ ទំហំ និងតម្លៃ។យើងមានជំនាញក្នុងការផលិតសម្ភារៈថ្នាំកូតខ្សែភាពយន្តស្តើងដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ជាមួយនឹងដំណើរការល្អឥតខ្ចោះក៏ដូចជាដង់ស៊ីតេខ្ពស់បំផុតដែលអាចធ្វើបាននិងទំហំគ្រាប់ធញ្ញជាតិមធ្យមតូចបំផុតដែលអាចធ្វើទៅបានសម្រាប់ប្រើក្នុងថ្នាំកូតផ្សិត, ការតុបតែង, គ្រឿងបន្លាស់រថយន្ត, កញ្ចក់ទាបអ៊ី, សៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នាពាក់កណ្តាល conductor, ខ្សែភាពយន្តស្តើង។ ធន់ទ្រាំ ការបង្ហាញក្រាហ្វិក លំហអាកាស ថតម៉ាញេទិក អេក្រង់ប៉ះ ថ្មពិល ខ្សែភាពយន្តស្តើង និងកម្មវិធីបំភាយចំហាយរាងកាយ (PVD) ផ្សេងទៀត។សូមផ្ញើមកយើងនូវការសាកសួរសម្រាប់ការកំណត់តម្លៃបច្ចុប្បន្នលើគោលដៅ sputtering និងសម្ភារៈបន្សល់ទុកផ្សេងទៀតដែលមិនមាននៅក្នុងបញ្ជី។

មុន៖ CrW Alloy Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ថ្នាំកូត Pvd ស្តើង ផលិតតាមបំណង

បន្ទាប់៖ CoFeTaZr Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ផលិតតាមបំណង