Rich Special Material Co., Ltd.ផ្គត់ផ្គង់នូវភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ Zirconium Sputtering Targets ជាមួយនឹងដង់ស៊ីតេខ្ពស់បំផុតដែលអាចធ្វើទៅបាន និងទំហំគ្រាប់ធញ្ញជាតិមធ្យមដែលតូចបំផុតដែលអាចធ្វើទៅបានសម្រាប់ប្រើប្រាស់នៅក្នុង semiconductor ការបញ្ចេញចំហាយគីមី (CVD) និងការបង្ហាញនៃការបញ្ចេញចំហាយរាងកាយ (PVD) និងកម្មវិធីអុបទិក។គោលដៅ sputtering ស្ដង់ដាររបស់យើងសម្រាប់ខ្សែភាពយន្តស្តើងគឺអាចប្រើបាន monoblock ឬភ្ជាប់ជាមួយនឹងវិមាត្រគោលដៅ planar និងការកំណត់រចនាសម្ព័ន្ធរហូតដល់ 820 មីលីម៉ែត្រជាមួយនឹងទីតាំងខួងរន្ធនិងខ្សែស្រឡាយ, beveling, grooves និងការគាំទ្រដែលបានរចនាឡើងដើម្បីធ្វើការជាមួយឧបករណ៍ sputtering ចាស់ក៏ដូចជាឧបករណ៍ដំណើរការចុងក្រោយបំផុត, ដូចជាការស្រោបផ្ទៃធំសម្រាប់ថាមពលពន្លឺព្រះអាទិត្យ ឬកោសិកាឥន្ធនៈ និងកម្មវិធីបន្ទះឈីប។គោលដៅទំហំស្រាវជ្រាវក៏ត្រូវបានផលិត ក៏ដូចជាទំហំផ្ទាល់ខ្លួន និងយ៉ាន់ស្ព័រផងដែរ។គោលដៅទាំងអស់ត្រូវបានវិភាគដោយប្រើបច្ចេកទេសបង្ហាញឱ្យឃើញល្អបំផុត រួមទាំងកាំរស្មីអ៊ិច ហ្វ្លុយអូរីស (XRF)។
ពេលវេលាផ្សាយ៖ ឧសភា-០៣-២០២៣