ដូចដែលយើងទាំងអស់គ្នាដឹងហើយថា ការហួតសុញ្ញកាស និងការបញ្ចេញអ៊ីយ៉ុង ត្រូវបានគេប្រើជាទូទៅនៅក្នុងថ្នាំកូតបូមធូលី។តើអ្វីជាភាពខុសគ្នារវាងថ្នាំកូតរំហួត និងថ្នាំកូតស្ពែរ?បន្ទាប់ អ្នកជំនាញបច្ចេកទេសមកពី RSM នឹងចែករំលែកជាមួយយើង។
ថ្នាំកូតរំហួតសុញ្ញកាសគឺដើម្បីកំដៅសម្ភារៈដែលត្រូវហួតដល់សីតុណ្ហភាពជាក់លាក់មួយដោយមធ្យោបាយនៃកំដៅធន់ទ្រាំឬកាំរស្មីអេឡិចត្រុងនិងការទម្លាក់គ្រាប់បែកឡាស៊ែរនៅក្នុងបរិយាកាសដែលមានកម្រិតទំនេរមិនតិចជាង 10-2Pa ដូច្នេះថាមពលរំញ័រកំដៅនៃម៉ូលេគុលឬ អាតូមនៅក្នុងវត្ថុធាតុលើសពីថាមពលភ្ជាប់នៃផ្ទៃ ដូច្នេះ ម៉ូលេគុល ឬអាតូមមួយចំនួនធំហួត ឬ sublimate និង precipitate ដោយផ្ទាល់នៅលើស្រទាប់ខាងក្រោមដើម្បីបង្កើតជាខ្សែភាពយន្តមួយ។ថ្នាំកូតអ៊ីយ៉ុង sputtering ប្រើចលនាល្បឿនលឿននៃអ៊ីយ៉ុងវិជ្ជមានដែលបង្កើតដោយការបញ្ចេញឧស្ម័ននៅក្រោមសកម្មភាពនៃវាលអគ្គិសនីដើម្បីទម្លាក់គោលដៅដែលជា cathode ដូច្នេះអាតូមឬម៉ូលេគុលនៅក្នុងគោលដៅរត់គេចខ្លួននិង precipitate ទៅលើផ្ទៃនៃ workpiece plated ដើម្បីបង្កើត។ ខ្សែភាពយន្តដែលត្រូវការ។
វិធីសាស្រ្តដែលប្រើជាទូទៅបំផុតនៃថ្នាំកូតហួតខ្វះចន្លោះគឺកំដៅធន់ទ្រាំដែលមានគុណសម្បត្តិនៃរចនាសម្ព័ន្ធសាមញ្ញការចំណាយទាបនិងប្រតិបត្តិការងាយស្រួល;គុណវិបត្តិគឺថាវាមិនស័ក្តិសមសម្រាប់លោហៈ refractory និងសម្ភារៈ dielectric ធន់នឹងសីតុណ្ហភាពខ្ពស់។កំដៅធ្នឹមអេឡិចត្រុងនិងកំដៅឡាស៊ែរអាចយកឈ្នះលើការខ្វះខាតនៃកំដៅធន់ទ្រាំ។នៅក្នុងកំដៅធ្នឹមអេឡិចត្រុង ធ្នឹមអេឡិចត្រុងផ្តោតត្រូវបានប្រើដើម្បីកំដៅដោយផ្ទាល់ទៅលើវត្ថុដែលបំផ្ទុះ ហើយថាមពល kinetic នៃធ្នឹមអេឡិចត្រុងក្លាយជាថាមពលកំដៅ ដែលធ្វើឱ្យសម្ភារៈហួត។កំដៅឡាស៊ែរប្រើឡាស៊ែរថាមពលខ្ពស់ជាប្រភពកំដៅ ប៉ុន្តែដោយសារតម្លៃឡាស៊ែរដែលមានថាមពលខ្ពស់ វាអាចប្រើបានតែនៅក្នុងមន្ទីរពិសោធន៍ស្រាវជ្រាវមួយចំនួនប៉ុណ្ណោះនាពេលបច្ចុប្បន្ន។
បច្ចេកវិទ្យា Sputtering ខុសពីបច្ចេកវិជ្ជារំហួតដោយសុញ្ញកាស។"Sputtering" សំដៅលើបាតុភូតដែលភាគល្អិតចោទប្រកាន់បានទម្លាក់លើផ្ទៃរឹង (គោលដៅ) ហើយធ្វើឱ្យអាតូមរឹង ឬម៉ូលេគុលបាញ់ចេញពីផ្ទៃ។ភាគល្អិតដែលបញ្ចេញភាគច្រើនគឺស្ថិតនៅក្នុងស្ថានភាពអាតូម ដែលជារឿយៗត្រូវបានគេហៅថាអាតូមដែលបែកខ្ញែក។ភាគល្អិតដែលប្រើដើម្បីបំផ្ទុះគោលដៅអាចជាអេឡិចត្រុង អ៊ីយ៉ុង ឬភាគល្អិតអព្យាក្រឹត។ដោយសារតែអ៊ីយ៉ុងងាយស្រួលក្នុងការបង្កើនល្បឿននៅក្រោមវាលអគ្គិសនីដើម្បីទទួលបានថាមពល kinetic ដែលត្រូវការ ពួកគេភាគច្រើនប្រើអ៊ីយ៉ុងជាភាគល្អិតទម្លាក់គ្រាប់បែក។ដំណើរការ Sputtering គឺផ្អែកលើការបញ្ចេញពន្លឺ ដែលមានន័យថា អ៊ីយ៉ុង sputtering បានមកពីការបញ្ចេញឧស្ម័ន។បច្ចេកវិជ្ជាផ្លុំផ្លុំផ្សេងៗគ្នា ប្រើរបៀបបញ្ចេញពន្លឺខុសៗគ្នា។DC diode sputtering ប្រើ DC glow discharge;Triode sputtering គឺជាការបញ្ចេញពន្លឺដែលគាំទ្រដោយ cathode ក្តៅ;RF sputtering ប្រើការបញ្ចេញពន្លឺ RF;Magnetron sputtering គឺជាការបញ្ចេញពន្លឺដែលគ្រប់គ្រងដោយវាលម៉ាញេទិក annular ។
បើប្រៀបធៀបជាមួយថ្នាំកូតរំហួតសុញ្ញកាស ថ្នាំកូត sputtering មានគុណសម្បត្តិជាច្រើន។ឧទហរណ៍ សារធាតុណាមួយអាចត្រូវបាន sputtered ជាពិសេសធាតុនិងសមាសធាតុដែលមានចំណុចរលាយខ្ពស់និងសម្ពាធចំហាយទាប;adhesion រវាងខ្សែភាពយន្ត sputtered និងស្រទាប់ខាងក្រោមគឺល្អ;ដង់ស៊ីតេខ្ពស់នៃខ្សែភាពយន្ត;កម្រាស់របស់ខ្សែភាពយន្តអាចគ្រប់គ្រងបាន ហើយភាពអាចដំណើរការឡើងវិញបានគឺល្អ។គុណវិបត្តិគឺថាឧបករណ៍មានភាពស្មុគស្មាញហើយត្រូវការឧបករណ៍ដែលមានវ៉ុលខ្ពស់។
លើសពីនេះទៀតការរួមបញ្ចូលគ្នានៃវិធីសាស្រ្តហួតនិងវិធីសាស្រ្ត sputtering គឺ ion plating ។គុណសម្បត្តិនៃវិធីសាស្រ្តនេះគឺថាខ្សែភាពយន្តដែលទទួលបានមាន adhesion ខ្លាំងជាមួយនឹងស្រទាប់ខាងក្រោម, អត្រាការប្រាក់ខ្ពស់និងដង់ស៊ីតេខ្សែភាពយន្តខ្ពស់។
ពេលវេលាប្រកាស៖ ថ្ងៃទី ២០ ខែកក្កដា ឆ្នាំ ២០២២