លក់ដុំ FeCoTa Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ថ្នាំលាបស្តើង Pvd ផលិតតាមតម្រូវការ ក្រុមហ៊ុនផលិត និងផ្គត់ផ្គង់ |សម្បូរ

ជាតិដែក Cobalt Tantalum

FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made Featured Image

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

ប្រភេទ	Alloy Sputtering គោលដៅ
រូបមន្តគីមី	FeCoTa
ការតែងនិពន្ធ	ជាតិដែក Cobalt Tantalum
ភាពបរិសុទ្ធ	99.9%, 99.95%, 99.99%
រាង	ចាន, គោលដៅជួរឈរ, cathodes ធ្នូ, ផលិតតាមបំណង
ដំណើរការផលិត	ការរលាយសុញ្ញកាស, PM
ទំហំដែលអាចប្រើបាន	L≤200mm, W≤200mm

ផ្ញើអ៊ីមែលមកយើង

ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

ស្លាកផលិតផល

គោលដៅ Iron Cobalt Tantalum ជាធម្មតាមាននៅក្នុងរាងជារង្វង់ និងសម្ភារៈខ្សែភាពយន្តស្តើងសំខាន់ៗនៃមេឌៀថតបញ្ឈរ។បរិមាណដ៏ច្រើនសន្ធឹកសន្ធាប់នៃ Tantalum ដែលមានវត្តមាននៅក្នុងយ៉ាន់ស្ព័រនឹងបណ្តាលឱ្យមានការបំបែក និងភាគល្អិតដែលមិនទាន់រលាយ។យើងប្រើវិធីសាស្រ្តផលិតតែមួយគត់ដែលអាចធានាបាននូវភាពដូចគ្នានៃរចនាសម្ព័ន្ធមីក្រូ និងធ្វើអោយប្រសើរឡើងនូវលក្ខណៈសម្បត្តិមេកានិចនៃវត្ថុធាតុដើម។

ឈ្មោះផលិតផល		FeCoTa
Fe/wt%		តុល្យភាព	តុល្យភាព	តុល្យភាព
សហ/wt%		២១.៦±០.៥	២១.៩±០.៥	20.2 ± 0.5
តា/wt%		៤១.១±០.៨	39.4±0.8	៤៤.៣±០.៨
មាតិកាមិនបរិសុទ្ធនៃលោហៈ(ppm)	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
មាតិកាមិនបរិសុទ្ធនៃឧស្ម័ន(ppm)	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

សម្ភារៈពិសេសសម្បូរបែបមានជំនាញក្នុងការផលិត Sputtering Target ហើយអាចផលិត Iron Cobalt Tantalum Sputtering Materials តាមការបញ្ជាក់របស់អតិថិជន។សម្រាប់ព័ត៌មានបន្ថែម សូមទាក់ទងមកយើងខ្ញុំ។

មុន៖ FeCo Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ថ្នាំកូត Pvd ស្តើង ផលិតតាមបំណង

បន្ទាប់៖ FeSi Sputtering Target ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ ថ្នាំកូត Pvd ស្តើង ផលិតតាមបំណង